|
Журнал «Компьютерра» 2006 № 15 (635) 18 апреля 2006 годаВысокочистый кремний подвергается возгонке в вакууме, после чего его пары осаждаются на подходящую матрицу, например, подложку из пластика. В результате ее поверхность покрывается твердой кремниевой пленкой, на которой посредством фотолитографии формируется микросхема. Эта технология требует высокотемпературной вакуумной аппаратуры и поэтому обходится весьма недешево. Новый метод, созданный под руководством Масахиро Фурусава (Masahiro Furusava), основан на применении не газообразного, а жидкого кремния. Сырьем для его получения служит жидкое при комнатной температуре силиконоводородное соединение циклопентасилан, молекула которого содержит кольцо из пяти атомов кремния. При облучении ультрафиолетом такие кольца разрываются и образуют цепочки, которые соединяются друг с другом в цепи большей длины. В результате образуется очень вязкая силиконовая жидкость, которую затем разжижают с помощью толуола или другого органического растворителя. Полученный состав методом центрифугирования наносят на матрицу и нагревают до 500 градусов Цельсия в камере, заполненной химически инертным газом ...» | Код для вставки книги в блог HTML
phpBB
текст
|
|